✨ Získaj 10% zľavu na prvý nákup! Prihlás sa k odberu noviniek 💖
📦 100% originálna kórejská kozmetika s rýchlym doručením
Upokojujúca pleťová maska pre citlivú a dehydratovanú pleť - Doprajte svojej pleti okamžitú dávku upokojenia a hydratácie s maskou DR. ALTHEA 345 Relief Cream Mask. Táto plátenková maska je navrhnutá pre citlivú, začervenanú a dehydratovanú pokožku, ktorá potrebuje extra komfort a podporu. Bohatá esencia pomáha zanechať pleť hydratovanú, jemnú a sviežu, zatiaľ čo priliehavý vegánsky materiál zabezpečuje efektívne vstrebávanie aktívnych látok.
Translation missing: sk.products.product.pickup_availability.unavailable
Tea Tree Leaf Water (30 %)
Pomáha osviežiť pokožku a podporuje komfort problematickej a citlivej pleti.
Centella Asiatica Complex
Komplex zložiek z pupočníka ázijského pomáha upokojiť pokožku a podporuje jej prirodzený komfort.
Niacinamide
Pomáha podporiť zjednotenejší vzhľad tónu pleti a prirodzený jas.
Panthenol
Poskytuje pokožke hydratáciu a príjemný pocit komfortu.
Ceramide NP
Podporuje ochrannú funkciu kožnej bariéry a pomáha predchádzať strate vlhkosti.
Sodium Hyaluronate
Pomáha udržiavať optimálnu úroveň hydratácie pokožky.
Jemná plátenková maska napustená krémovou esenciou, ktorá sa dobre vstrebáva a zanecháva pleť príjemne hydratovanú, sviežu a komfortnú.
Výrobca si vyhradzuje právo zmeniť zloženie, dizajn obalu a vlastnosti výrobku bez predchádzajúceho upozornenia. Aktuálny zoznam zložiek je vždy uvedený na obale výrobku.
Water (Aqua), Melaleuca Alternifolia (Tea Tree) Leaf Water, Methylpropanediol, 1,2-Hexanediol, Butylene Glycol, Glycerin, Niacinamide, Octyldodeceth-16, Triethylhexanoin, Caprylic/Capric Triglyceride, Pentylene Glycol, Carbomer, Hydroxyethylcellulose, Tromethamine, Allantoin, Trehalose, Caprylyl Glycol, Ethylhexylglycerin, Dipotassium Glycyrrhizate, Disodium EDTA, Panthenol, Glycine Soja (Soybean) Seed Extract, Sodium Hyaluronate, Hydrolyzed Hyaluronic Acid, Pantothenic Acid, Centella Asiatica Leaf Water, Cyclodextrin, Centella Asiatica Extract, Hydrogenated Lecithin, Madecassoside, Ceramide NP, Cholesterol, Camellia Sinensis Leaf Water, Resveratrol, Beta-Glucan, Sodium DNA, Nelumbo Nucifera Leaf Extract.
Upokojujúca pleťová maska pre citlivú a dehydratovanú pleť - Doprajte svojej pleti okamžitú dávku upokojenia a hydratácie s maskou DR. ALTHEA 345 Relief Cream Mask. Táto plátenková maska je navrhnutá pre citlivú, začervenanú a dehydratovanú pokožku, ktorá potrebuje extra komfort a podporu. Bohatá esencia pomáha zanechať pleť hydratovanú, jemnú a sviežu, zatiaľ čo priliehavý vegánsky materiál zabezpečuje efektívne vstrebávanie aktívnych látok.
Prihlás sa k odberu noviniek a získaj okamžitú zľavu na korejskú kozmetiku + tajné ponuky priamo do mailu!